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最近科技圈的大事不断，首先是量子领域，我国第一条量子芯片产线落地，意味着我国的量子计算技术进入到了商业化应用时代，其次就是在ChatGPT技术上，被认为会成为引领未来互联网技术爆发的新方向。
不过这两项技术都还太新，处于应用的初期阶段，还需要时间去培育市场，而在这个时候，其实我国也是不断传来好消息，其中在光刻机方面的成就是斐然的。
文 | 科技君
在2018年的时候，中芯国际曾经向荷兰的ASML公司订购了一台EUV光刻机，想要以此来扩充工艺辐射范围，但是结果却并不是很好，由于老美的阻拦，最终这台EUV光刻机也没有进入中芯国际。
也是因为这个原因，所以在2020年开始，我国加速了EUV光刻机的研发，但是在这个时候，ASML方面跳出来说，哪怕是把图纸给我们，我们也造不出EUV光刻机，这话说的非常狂妄，而ASML公司之所以这么说，是因为EUV光刻机包含的零部件多达10万之众，所以ASML认为单靠我们是造不出来的。
可是，结果却并非如此，根据最新消息显示，最近哈工大成功公布的技术，获得了我国光学学会最高奖，那么这份奖有多重，其实哈工大获奖凭借的是高速超精密极光干涉仪，该技术可以应用在350nm至28nm多个工艺节点的光刻机样机集成研制和性能测试领域，并且根据哈工大的叙述，该技术还可以为7nm及以下节点光刻机研发提供重要的共性技术储备，也就是说，这会是未来更高工艺光刻机研发的基础。
另外，截止到目前为止哈工大还突破了EUV激光光源，光刻机双工作台等技术，这也就是说，这些EUV光刻机上所需要的核心部分都已经被哈工大攻克，所以说距离真正的EUV光刻机突破似乎是越来越近了。
其中在EUV光源方面，哈工大掌握的是和ASML公司目前最高水平一样的DPP-EUV光源。从这些方面来看，其实欧美已经没有优势了，我们目前需要的也只是时间了，只要时间再多一些，相信国产EUV光刻机的突破，绝对不会是一句空话，毕竟我们的准备已经很充分了。
另外，倪光南院士也说了，目前绝大部分的应用芯片工艺主要集中在28nm水平上，所以说，只要28nm光刻机获得突破，并且良率可以得到保障，那么国产芯片事业的发展就可以完美过渡到自给自足。
毕竟在性能追求更高的芯片方面，如今也有了选择，例如采用异构的方式将芯片堆叠，这一点长电科技的封装水平已经达到，华为也拥有芯片堆叠技术的专利，完全可以解决中端芯片的生产制造问题，至于高端移动芯片方面，之前高通已经发话了，会继续和华为进行合作，毕竟高通也需要更多的客户来壮大营收。
所以基于以上几点，我们完全有时间在发展国产EUV光刻机的同时，继续保证产业链的发展壮大，无论老美如何干预，影响是微乎其微的，毕竟如果真的有效果，那早在2019年的时候就起效了，可是结果却是，目前的华为依旧好好的活着，并且越活越好，已经逐步的摆脱了营收下滑的状态，90%的概率是在2023年华为会恢复营收增长的发展趋势。
你看好国产EUV光刻机的发展吗？
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